气相沉积(CVD)炉CVD/CVI 气相沉积/渗透炉-上海4008云顶集团科技股份有限公司
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    产品详情

    设备用途:

    用做石墨或碳碳表面的碳化硅涂层、碳碳复合涂层。

    用途广泛 如:

    1 碳碳复合涂层:光伏晶体炉的热场材料

    2 石墨涂层:LED蓝宝石衬底MOCVD的石墨托盘

    设备特点:

    1 立式结构,炉壳用耐腐蚀材料制成。

    2 独特的内罩进排气结构,热场温度均匀性好。

    3 气氛控制精确,真空系统配有过滤器,可选配尾气处理系统。

    4 主要电器元件采用施耐德及欧姆龙品牌,性能稳定、可靠。

    5 配备出、装料料车,方便操作及出装料,提高工作效率。

    主要技术参数:

    No.型号工作区尺寸(ØXH)mm高温度  (℃)真空度   (Pa)

    压升率

     (Pa/h)

    温度均匀性 (℃)功率   (KW)
    1ZT-60-15300X50015001-1000.67±1060
    2ZT-145-15600X80015001-1000.67±10145
    3ZT-220-15800X100015001-1000.67±15220
    4ZT-270-151000X150015001-1000.67±20275
    5ZT-550-151500X200015001-1000.67±20550

    炉膛尺寸可按要求定做

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